化工系校友林慶煌當(dāng)選國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)會(huì)士

清華新聞網(wǎng)3月4日電 2017年1月，清華大學(xué)化工系校友、美國(guó)國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司托馬斯·沃森研究院（IBM，Thomas J. Watson）研究員林慶煌博士當(dāng)選2017年國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)會(huì)士（SPIE Fellow），這是其本人繼2014年當(dāng)選美國(guó)化學(xué)會(huì)會(huì)士、2015年當(dāng)選美國(guó)化學(xué)會(huì)材料協(xié)會(huì)會(huì)士后獲得的第三個(gè)會(huì)士稱(chēng)號(hào)。

國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)（The International Society for Optical and Photonics Engineering，SPIE）成立于1955年，是一個(gè)致力于光學(xué)、光子學(xué)、光電子學(xué)、成像、圖像處理等領(lǐng)域的知識(shí)收集、傳播、交流和應(yīng)用的非贏(yíng)利性國(guó)際專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)學(xué)會(huì)。學(xué)會(huì)擁有264000名會(huì)員，遍布全球166個(gè)國(guó)家。國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)會(huì)士（SPIE Fellow）是其設(shè)立的榮譽(yù)稱(chēng)號(hào)，用于表彰在光學(xué)、光子學(xué)、成像科學(xué)等多學(xué)科交叉領(lǐng)域取得杰出科研成就、并為光學(xué)領(lǐng)域特別是為學(xué)會(huì)做出卓越貢獻(xiàn)的會(huì)員。

自1955年國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)創(chuàng)立以來(lái)，共有1000多名會(huì)員當(dāng)選為會(huì)士。2017年，學(xué)會(huì)新增會(huì)士71名，林慶煌博士因在集成電路制造光刻材料和工藝領(lǐng)域的突出貢獻(xiàn)而當(dāng)選。2017年2月27日，在美國(guó)加州硅谷召開(kāi)的國(guó)際先進(jìn)光刻學(xué)術(shù)年會(huì)上，林慶煌被正式授予學(xué)會(huì)會(huì)士銘牌。

2月27日，學(xué)會(huì)總裁尤金·阿瑟斯（Eugene Arthurs）博士（左），年會(huì)主席、美國(guó)羅徹斯特工學(xué)院布魯斯·史密斯（Bruce Smith）教授（右）共同為林慶煌博士（中）頒發(fā)銘牌。

林慶煌從事集成電路研究二十余年，曾主持或參與0.25微米至5納米十幾代計(jì)算機(jī)CMOS邏輯芯片、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器（DRAM）芯片、磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器（MRAM）芯片的探索研發(fā)，具有研究、開(kāi)發(fā)、工程、管理和技術(shù)戰(zhàn)略決策的豐富經(jīng)驗(yàn)。個(gè)人擁有94項(xiàng)美國(guó)專(zhuān)利，獲得美國(guó)國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司26項(xiàng)杰出發(fā)明成就獎(jiǎng)，曾獲公司發(fā)明大師稱(chēng)號(hào)(IBM Master Inventor)。2002年，因研發(fā)出248納米雙層光刻膠技術(shù)，獲得公司技術(shù)成就獎(jiǎng)。該技術(shù)作為四十年來(lái)美國(guó)國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司對(duì)世界半導(dǎo)體行業(yè)的主要技術(shù)貢獻(xiàn)之一，曾獲得由總統(tǒng)頒發(fā)的美國(guó)最高技術(shù)獎(jiǎng)——2004年美國(guó)國(guó)家技術(shù)勛章。2015年和2016年，因其光刻技術(shù)成就及在磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器（MRAM）芯片和先進(jìn)邏輯芯片的應(yīng)用，三次獲得公司技術(shù)成就獎(jiǎng)。相關(guān)技術(shù)被廣泛用于生產(chǎn)制造高端服務(wù)器及手機(jī)中的尖端芯片。

迄今已發(fā)表學(xué)術(shù)論文70余篇，編輯出版專(zhuān)著7部，學(xué)術(shù)會(huì)議論文集9部。擔(dān)任國(guó)際學(xué)術(shù)期刊《微/納米光刻、微型制造及微系統(tǒng)技術(shù)》（Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS）副主編和《材料研究雜志》（Journal of Materials Research）客座主編。

林慶煌于1980年考入清華大學(xué)化學(xué)工程系高分子專(zhuān)業(yè)，于1985年、1988年獲得學(xué)士和碩士學(xué)位。1990年進(jìn)入美國(guó)密歇根大學(xué)材料系，1994年獲博士學(xué)位。1995年，在美國(guó)得克薩斯大學(xué)奧斯汀分校化工系格蘭特·威爾森（C. Grant Willson）院士研究組從事博士后工作。1995年底，進(jìn)入美國(guó)國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司工作至今。多年來(lái)，一直活躍在國(guó)際化學(xué)、材料、半導(dǎo)體等學(xué)術(shù)領(lǐng)域。2016年擔(dān)任美國(guó)化學(xué)會(huì)高分子材料協(xié)會(huì)主席，是該協(xié)會(huì)成立90余年來(lái)第一位華人主席。現(xiàn)為中國(guó)集成電路材料和零部件聯(lián)盟特聘咨詢(xún)專(zhuān)家。

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編輯：悸寔 華山 徐靜